新突破！新征程！珠海智桦半导体级高浓度臭氧水系统成功交付高端客户

国产半导体核心设备迎来新突破，芯片制造清洁环节长期依赖进口的局面正被改变。

    2025年10月31日，珠海智桦半导体科技有限公司宣布其首台自主研发的高浓度臭氧水系统（DIO3）成功交付于国内高端客户，标志着国产半导体辅助设备在打破国外技术垄断方面取得重要进展。

在芯片制造过程中，即使是最微小的污染也可能导致整批晶圆失效，晶圆表面纳米级洁净度直接决定器件良率，而臭氧水系统作为 “芯片清洁专家”，长期被国外技术壁垒所桎梏。珠海智桦此台设备的成功交付，为国内半导体产业链自主可控提供了关键支撑。

      面对臭氧浓度稳定性控制、低损伤工艺适配等行业难题，珠海智桦十年经验核心团队开展了深入技术攻关。

                         1. 高纯度浓度。该系统可实现最高浓度达150ppm的臭氧水生成，满足高端芯片制造对“低损伤、高纯度”的严苛要求。

                         2. 精准调控。稳态精度控制达±0.5ppm，实现了臭氧浓度的精准调控与超高稳定性。

                         3. 低损伤工艺。该系统在去除晶圆表面颗粒、有机残留及金属杂质的同时，能将对铜布线等敏感结构的腐蚀率控制在极低水平。

     珠海智桦从成立之初便将 “打破技术垄断，筑牢国产根基” 刻入发展基因。基于对先进制程需求的深刻理解，公司成功研发出性能指标比肩国际同类产品的臭氧水系统。

    从实验室的反复迭代到产线的严苛验证，智桦人以“十年磨一剑”的韧劲，破解了国外长期以来的技术封锁。

半导体设备从研发到交付需要经过严格的测试流程。臭氧水系统作为芯片制造过程中的关键辅助设备，其稳定性和可靠性直接影响到整个生产线的运行效率。

珠海智桦为国内客户提供了兼具可靠性与经济性的国产替代方案。这一突破不仅意味着技术上的成就，更代表着中国半导体产业链自主化进程迈出坚实一步。

   在半导体产业全球化格局面临挑战的今天，供应链安全与稳定性成为企业考量的关键因素。珠海智桦半导体的成功交付，为国内芯片制造企业提供了更多元化、更自主可控的选择。

    展望未来，珠海智桦将持续以技术创新为引擎，深耕半导体核心零部件设备领域，在臭氧应用技术的深度与广度上持续突破。

公司计划从单一设备供应商向 “工艺解决方案服务商” 升级。这种转型不仅意味着业务模式的拓展，更代表着对客户需求理解的深化和服务能力的提升。

    “我们坚信，每一台自主研发设备的交付，都是在为中国半导体产业链的韧性建设添砖加瓦。”公司总经理赵联波表示，“每一次技术壁垒的突破，都在推动中国 “芯” 从 “跟跑” 向 “并跑” 乃至 “领跑” 跨越”。

     随着全球半导体产业格局变革，供应链安全与自主可控成为各国竞争焦点。珠海智桦半导体臭氧水系统的成功交付仅是开端，国产半导体设备正逐步打破国外垄断，为中国芯片制造业提供更多元化、更自主可控的选择。