臭氧水 (DIO3)
输出高纯度高浓度臭氧水，内置臭氧水浓度和输出压力PID控制系统，精确控制臭氧水浓度和压力波动。配备完善的安全联锁装置，符合SEMI-S2，S6，f47。可应用于: 大硅片、硅片清洗、去胶、划片后清洗、CMP后清洗等。
技术优势和特点
高性能: 最高浓度可达140ppm以上；
可靠性: 内部罐采用特殊技术，耐高压，零泄漏，从结构根源上保证长期稳定运行; \
稳定性: 稳态控制精度 ± 0.5ppm，满足先进工艺对清洗一致性的严格要求；
超小占地面积: 580 × 580毫米紧凑设计，节省占地面积，适合晶圆厂高密度布局要求；
高效消泡技术: 创新的旋流分层消泡技术，确保输出的臭氧水无气泡，避免清洗过程中的微缺陷；
低运行成本: 非常低的o ₂ 和co ₂ 消耗，非常低的冷却水流量和机器功率，降低运行能耗；
通讯接口: 支持以太猫、Modbus TCP、RS485及远程I/O、TCP/IP等通讯方式；
灵活的功能扩展: 可根据客户需求定制，配合使用场景。
