超高纯臭氧发生器
臭氧发生器采用中高频无声板式放电技术，通过介质阻挡放电形成高压电场从而电离氧气，实现臭氧生成。
应用于CVD及ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用(臭氧水清洗等)
应用于CVD及ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用(臭氧水清洗等)
臭氧浓度高:最高420/m & sup3;；
流量范围广:0.5 ~ 40slm(1 ~ 14cell可选)；
结构设计优越性:臭氧放电室与电源模块一体化水冷设计
热负荷极低:冷却水流量需求低，14cell仅需9.5slm；
洁净度高:高纯氧化铝陶瓷、满足半导体洁净要求；
符合行业认证:SEMI S2
